產品簡介：
● 基于視窗結構的軟件，很容易操作
● 的深紫外光學及堅固耐用的震設計，以系統能發揮出的性能及長的正常運行時間
● 基于陣列設計的探測器系統，以快速測量
● 格，便攜式及靈巧的操作臺面設計
● 在很小的尺寸范圍內，多可測量多達5層的薄膜厚度及折射率
● 在毫秒的時間內，可以獲得反射率、傳輸率和吸收光譜等一些參數
● 能夠用于實時或在線的監控光譜、厚度及折射率
● 系統配備大量的光學常數數據及數據庫
● 對于每個被測薄膜樣品，用戶可以利用的軟件功能選擇使用NK數據庫、也可以進行色散或者復合模型（EMA）測量分析
● 系統了可視化、光譜測量、、薄膜厚度測量等功能于一體
● 能夠應用于不同類型、不同厚度(厚可測200mm)的基片測量
● 使用深紫外光測量的薄膜厚度可至20 ?
● 2D和3D的圖形輸出和友好的用戶數據管理界面
● 的成像軟件可用于諸如角度、距離、面積、粒子計數等尺寸測量
● 各種不同的選配件可滿足客戶各種的應用
系統配置：
● 型號：MSP100RTM
● 探測器：2048像素的CCD陣列
● 光源：高功率的深紫外－可見光光源
● 光傳送方式：光纖
● 自動的臺架平臺：處理的鋁合金操作平臺，能夠在5”×3”的距離上移動，并且有著1μm的分辨率，程序控制
● 物鏡有著長焦點距離:4×，10×，15×(DUV)，50×
● 通訊接口：U的通訊接口與計算機相連
● 測量類型：反射/光譜、薄膜厚度/反射光譜和特性參數
● 計算機硬件：英特兒酷睿2雙核處理器，200G硬盤、DVD刻錄機，19”LCD顯示器
● 電源：110–240V AC/50-60Hz，3A
● 尺寸：16’x16’x18’ (操作桌面設置)
● 重量：120磅總重
● 保修：一年的整機及備件保修
基本參數：
● 波長范圍：250nm到1000 nm
● 波長分辨率: 1nm
● 光斑尺寸：100μm (4x), 40μm (10x), 30μm (15x), 8μm (50x)
● 基片尺寸：多可至20mm厚
● 測量厚度范圍: 20? 到25 μm
● 測量時間：快2毫秒
● 度*：0.5％（通過使用相同的光學常數，讓橢偏儀的結果與熱氧化物樣品相比較）
● 重復性誤差*：小于2 ?
應用領域：
● 半導體制造（PR，Oxide, Nitride..)
● 液晶顯示（ITO，PR，Cell gap... ..）
● ，生物薄膜及材料領域等
● 油墨，礦物學，顏料，調色劑等
● 醫藥及醫藥中間設備等
● 光學涂層，TiO2, SiO2, Ta2O5... ..
● 半導體化合物
● 在MEMS/MOEMS系統上的功能性薄膜
● 非晶體，納米材料和結晶硅
產品可選項：
● 波長可擴展到遠深紫外光或者近紅外光范圍
● 高功率的深紫外光?用于小斑點測量
● 可根據客戶的需求來定制
● 在動態實驗研究時，可根據需要對平臺進行加熱或致冷
● 可選擇的平臺尺寸多可測量300??mm大小尺寸的樣品
● 更高的波長范圍的分辨率可0.1nm
● 各種濾光片可供各種的需求
● 可添加應用于熒光測量的附件
● 可添加用于拉曼應用的附件
● 可添加用于偏光應用的附件