液晶盒間隙厚度測量儀 一．用途  本測量儀可用來測量液晶盒內間隙之厚度（1um―10um）；電容膜或其他類型薄膜的厚度（1um-50um）；也可當作臺階儀用來測量十分薄的薄膜的厚度（10nm-1um），如液晶顯示器中的PI膜、ITO和氧化硅層厚度的測量。   二．測量原理 激光束以不同入射角投射到被測樣品中，利用激光束從液晶盒內空氣間隙的兩個界面的反射光所產生的光干涉效應，通過儀器的設計把無法直接測量的微小空氣間隙厚度放大成可直接測量的直線長度從而確定空氣間隙的厚度。測量儀有I型和II型兩種不同結構，I型激光束是由上向下投射到被測樣品。II型激光束是由下向上投射到被測樣品。   三．主要技術性能 1．測量范圍：10nm-50um。 2．測量：對厚度在10nm-1um范圍測量的誤差為1nm；對厚度在1um―10um范圍測量的百分誤差小于0.1%；對厚度在10-50um范圍測量的百分誤差小于0.3%。 3．光源：波長為0.675um的半導體激光器。 4．測量方法：用鼠標控制計算機介面顯示的按鈕用1性、全自動地進行測量和數據處理，并顯示出測量結果。 5．載樣品臺尺寸及被測點的限制：I型的載樣品臺尺寸為 200mm * 150mm ,被測樣品的尺寸無限制但要求被測點與被測樣品其中一條邊界的距離不大于 75mm 或可根據用戶要求重新設計。II型的載樣品臺尺寸為 300mm * 200mm ,對被測樣品的尺寸和被測點的位置均無限制。 6．測量時間：小于2秒/點。 7．使用電源：交流220伏、150瓦，為測量宜采用具有穩壓及脈沖濾波的電源供電。   四．售后服務 儀器保修2年。以后維修只收件更換費。   五．儀器之比較     現在市場上供應的厚度（1-50μm）測量儀器，一般采用反射計，它通過測量垂直入射白光的反射率來確定樣品的厚度，這類儀器采用分光光譜技術還需要的光強度的測量設備，因此價格較為昂貴，由于光強測量的性依賴于測量元器件性能的穩定性隨著環境條件的變化或經過長時間使用后測量結果的一致性，儀器的維護費用高。        本儀器是中山大學物理系史隆培所發明，測量方法十分簡單而儀器經久耐用。從1995年起先后為香港高發和香港 精電 等公司提供多臺測量儀，至今高發公司屬下的深圳高華和順德龍高公司仍在使用，他們經過多年在不同環境條件下使用儀器不用維修或較準仍能對同一樣品測量結果的一致性。