| 品牌 | 日本大塚OTSUKA旗下Photal | 型號(hào) | FE series |
| 用途 | 膜厚測(cè)量 |
| 橢圓偏光儀 FE-5000 |
| 反射式膜厚量測(cè)儀 FE-3000 |
| 膜厚光譜分析儀系統(tǒng) MCPD series |
| 桌上型橢圓偏光儀 FE-5000S |
| 膜厚量測(cè)儀 FE-300 |
| 平面顯示器膜厚量測(cè)裝置 FE seires |
| 半導(dǎo)體膜厚量測(cè)裝置 FE series |
| 生產(chǎn)線製程膜厚量測(cè)系統(tǒng) MCPD series |
反射式膜厚量測(cè)儀 FE-3000
膜厚量測(cè)儀 FE-300
膜厚光譜分析儀系統(tǒng) MCPD series
橢圓偏光儀 FE-5000奈米等級(jí)的橢圓偏光膜厚儀,適用於解析多層膜膜厚、膜質(zhì)管理、光學(xué)常數(shù)(n:屈折率;k:衰減係數(shù))。
| 膜厚量測(cè)範(fàn)圍 | 0.1nm ~ 1000nm |
| 波長量測(cè)範(fàn)圍 | 250nm ~ 1100nm |
| 膜厚量測(cè)範(fàn)圍 | 0.1nm ~ 1000nm |
| 波長量測(cè)範(fàn)圍 | 300nm ~ 800nm |
| 膜厚量測(cè)範(fàn)圍 | 1nm ~ 250μm |
| 波長量測(cè)範(fàn)圍 | 190nm ~ 1600nm |
| 膜厚量測(cè)範(fàn)圍 | 10nm ~ 40μm |
| 波長量測(cè)範(fàn)圍 | 300nm ~ 800nm |
| 膜厚量測(cè)範(fàn)圍 | 800nm ~ 250μm |
| 波長量測(cè)範(fàn)圍 | 220nm ~ 1600nm |
TOP平面顯示器膜厚量測(cè)裝置 FE series可對(duì)應(yīng)各世代的樣品尺寸
| 應(yīng)用範(fàn)圍 | |
| LCD | ITO/Gl,PI/OC/Gl,CF/Gl,Resist/Gl |
| TFT | SiN/a-Si/Gl |
| 有機(jī)OLED | 有機(jī)OLED/ITO/Gl |
| PDP | 鐵導(dǎo)層/Gl |
| 應(yīng)用範(fàn)圍 | |
| Si半導(dǎo)體晶圓膜 | SiO2/Si,Resist/Si,SiO2/a-Si,SiO2/SiN/SiO2 |
TOP製程生產(chǎn)線膜厚量測(cè)系統(tǒng):MCPD series(可配合各式傳輸裝置及生產(chǎn)線)各式薄膜生產(chǎn)線、遠(yuǎn)距離量測(cè)、多點(diǎn)同時(shí)量測(cè)
(1) 顯微鏡量測(cè)端 (2) X-Y軸量測(cè)平臺(tái)【顯微鏡量測(cè)架構(gòu)】
以絕對(duì)反射率達(dá)到高的微小口徑膜厚解析。
(1) 分光光譜儀主機(jī)
(2) 受光光纖
(3) Y型分歧式光纖
(4) 量測(cè)用光源
(5) 橫式移動(dòng)軸
(6) 光纖固定組件







