1.溶劑凈化系統原理介紹
利用惰性氣體將儲液器溶中的溶劑壓入凈化柱中，溶劑中的O2等雜質與除氧器中的低價氧化物作用，生成高價金屬氧化物，以實現深度脫氧：
2xM+yO2→2MxOy(室溫)
脫氧后的氣體進人吸附器中，H2O等強吸附質被吸附劑吸附后，即得到高純溶劑，可直接取用。
除氧器、吸附器經較長時間的工作，脫氧和吸附能力會逐漸下降，當除氧器或除水器快要飽和失效時，就應停止使用，并對失效的塔進行再生，再生后的凈化柱又可繼續使用。
2. 系統可提純的溶劑種類
本系統可以提純的溶劑有: 苯、正己烷、甲苯、四氫呋喃、戊烷、乙醚、 二氯甲烷、乙腈、氯甲烷、甲醇、吡啶、重水、二甲基甲酰胺、二乙基甲酰胺、氯仿、氯苯等。
3. 技術參數
原料溶劑要求
O2含量 ： ≤1000ppm
H2O含量：≤1000ppm
如果原料溶劑超過以上指標則單次凈化溶劑的量將相應減少。
出口溶劑技術指標
O2含量 ： ≤1ppm
H2O含量： ≤2ppm
設備技術參數
額定處理量：
溶劑流速 ： ≤
溶劑種類 ： 可以同時處理5種溶劑
再生性能 ： 設備可反復再生長期使用
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