CX51半導體檢測顯微鏡介紹：     

工業顯微鏡廣泛應用于半導體,電子工業進行晶體,集成電路的檢驗和科學研究.配備有反射照明,成象和觀察系統,偏光裝置.Industrial  microscope  is  widely  used  for  crystal,  integrated  circuit  (IC)  examination

and  research.  It  is  supplied  with  reflected  illumination,  imaging  and  viewing  system,  
polarized  imaging  system.規格  Specifications  無限遠光學系統,管鏡焦距200mm Infinitive  Optical  System,  Tube  Lens  Focal  Length  200mm鉸鏈式三目鏡筒,30°傾斜,  瞳距55-75mmCompensation  Free  Trinocular  Tube,  Inclined  at  30°,  Interpupillary  Distance  55-75mm高眼點,大視場目鏡WF10X/22High  Point  and  Wide  Field  Eyepiece  WF10/22長工作距離,平場復消色差物鏡
2X/0.055,  5X/0.14,  10X/0.28,  20X/0.29,  50X/0.42 Long  Working  Distance,  Plan  Apo  Objectives  2X/0.055,  5X/0.14,  10X/0.28,  20X/0.29,  50X/0.42五孔物鏡轉換器Quintuple  Nosepiece6″雙層活動平臺和圓平臺6″Double  Layers  Mechanical  Stage  and  circle  stage同軸粗微調焦機構,微動格值0.002mmCoaxial  Coarse  &  Fin  Focus  Adjustment  System,   Fine  Division  0.002mm照明系統  Illumination  System冷光源光纖反射照明器:12V150WCold  Light  Fiber  Reflected  Illnminator:  12V150W金相顯微鏡