- 品牌/商標：MYCRO
- 企業類型：貿易商
- 新舊程度：全新
- 原產地：美國
品牌：Alpha
產地：德國
簡介：
德國原裝進口Q系列微波等離子處理系統，用于（高劑量注入后）光刻膠的去除，Alpha微波等離子刻蝕機，用于濕法或干法刻蝕工藝前后，Alpha微波等離子區膠機用于SU-8和其它環氧基光膠的去除，Alpha微波等離子去膠機用于微電子機械系統加工中犧牲層去除，Alpha Q150微波等離子去膠機用于去除化學殘余物，Alpha微波等離子去膠機用于清除浮渣工藝。
應用領域：
? 半導體硅片生產中光刻膠或SU-8膠工藝
? 平板顯示生產中等離子體預處理
? 太陽能電池生產中邊緣絕緣和制絨
? 先進晶片（芯片）裝配中的襯底清潔和預處理
優勢：
? 預處理可避免光刻膠在高劑量離子注入后破裂
? 硬膠的輕柔去除
? 溫度為230攝氏度
? Slow temperature ramp – up溫升慢
? 高密度激發態原子團
? 工藝時間短
? 的自偏壓，低損傷
需要更詳細的微波等離子處理系統信息
請與邁可諾技術有限公司中國營銷服務中心區域辦公室聯系!
產地：德國
簡介：
德國原裝進口Q系列微波等離子處理系統，用于（高劑量注入后）光刻膠的去除，Alpha微波等離子刻蝕機，用于濕法或干法刻蝕工藝前后，Alpha微波等離子區膠機用于SU-8和其它環氧基光膠的去除，Alpha微波等離子去膠機用于微電子機械系統加工中犧牲層去除，Alpha Q150微波等離子去膠機用于去除化學殘余物，Alpha微波等離子去膠機用于清除浮渣工藝。
應用領域：
? 半導體硅片生產中光刻膠或SU-8膠工藝
? 平板顯示生產中等離子體預處理
? 太陽能電池生產中邊緣絕緣和制絨
? 先進晶片（芯片）裝配中的襯底清潔和預處理
優勢：
? 預處理可避免光刻膠在高劑量離子注入后破裂
? 硬膠的輕柔去除
? 溫度為230攝氏度
? Slow temperature ramp – up溫升慢
? 高密度激發態原子團
? 工藝時間短
? 的自偏壓，低損傷
| Q150 | Q235 | Q240 | |
| 樣片尺寸 | 5" | 6" | 4", 5", 6", 8" |
| 腔室尺寸（mm） | φ150 x 260depth | φ235 x 260depth | φ240x 460depth |
| 處理能力 | 25x 5" | 25x 6" | 50x 6", 8" |
| 工藝壓力(Pascal) | 1-100 | 1-100 | 1-100 |
| 頻率(GHz) | 2.45 | 2.45 | 2.45 |
| 功率(W) | 100-600 | 100-600 | 100-1200 |
| 控制方式 | 全自動運行 | 全自動運行 | 全自動運行 |
| 外形尺寸 （WxHxD, mm） | 500x370x550 | 590x460x550 | 760x775x775 |
| 主機重量（kg） | 40 | 70 | 120 |
| 泵重量（kg） | 32 | 32 | 83 |
| 總重量（kg） | 72 | 102 | 203 |
| 總功率 (kW) | 2.2 | 2.6 | 4.2 |
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