HD半光亮鎳光澤劑
鍍液組成及操作條件
成分及工藝條件
范圍
標準
NiSO4·6H2O
(260～320 )g/L
300 g/L
NiCl2·6H2O
(38～53) g/L
45 g/L
H3B03
(38～50) g/L
45 g/L
半光亮柔軟劑
(3～5) ml/L
4 ml/L
半光亮整平劑
(0.4～0.6) ml/L
0.5 ml/L
半光亮潤濕劑
(1～3) ml/L
2 ml/L
pH
3.8～4.5
溫度℃
50～60
Dk
2～6A/dm2
消耗量：
半光亮柔軟劑 80～100ml/KAH
半光亮整平劑 100～150ml/KAH
用途及特性
1. 該工藝是專門為腐性能要求高的電鍍件而設計，適用于作為多層鎳
系統中的半光亮鎳底層；
2. 香豆素，甲醛，鍍液穩定性高，降低廢水處理的成本；
3. 鍍層填平性，柔軟性佳。
江蘇夢得電鍍化學品有限公司
免企業未認證證營業執照未上傳
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