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干氯中的水分在線監測系統
在線測量干燥（Cl2）中的水分（H2O）
監測水分含量，以控制干燥機工藝含水分的（>12mg/l H2O）對于在干燥機后面的其他氯處理中使用的很多材料都具有腐蝕性。因此，需要對進行干燥，以發生腐蝕。具有有限干燥能力的工藝干燥機將執行這一干燥過程。為了在發生飽和時進行再生，需使用多臺干燥機。濕的干燥過程需要通過在線測量（Cl2）中的水分（H2O）進行控制。
典型測量范圍：0-10/0-20/0-200 mg/l H2O（1）
中鹽水中的鈣鎂離子在線監測系統
對鹽水質量進行控制以膜的損壞
從水銀電解法改為膜電解法后，鹽水的純度就變得關鍵。鹽水純化工藝的功能不正常會造成較高的 Ca＋＋和 Mg＋＋濃度，從而可能損害膜的性能。在膜被鈣鹽和鎂鹽堵塞的情況下，用電成本就會不可逆轉地增加。后，可能需要將膜更換。典型測量范圍：
1–20或 1–100µg/l 或 ppm Ca2＋和 Mg2＋（1）
中鹽水中總氮在線監測系統
提供裝置保護，發生三氯化氮。通過在上游控制鹽水中的總氮（TN），可以采取要的工藝措施來在液化過程中形成三氯化氮（NCl3）。使用新開發的 TONI®Special 分析儀并采用具有等摩爾響應的濕法化學氧化技術，可對鹽水中的總氮進行在線測量。
典型測量范圍：0–2.5 mg/l TN（1）
濕氯中的氫氣在線監測系統
提供裝置保護，發生氫氣
濕中的氫氣（H2）濃度關鍵，尤其是采用膜電解池法生產時。因為膜的損壞，在數秒鐘內即可發生氫氣（H2）與（Cl2）混合。氫氣（H2）和（Cl2）的混合氣可能會發生燃燒或，取決于混合氣中兩種氣體的濃度。出于原因，建議安裝一個在線分析儀系統，以便快速測定濕中的氫氣（H2），從而使氣體組成保持在易燃限以內。
響應時間：T90<15s
典型測量范圍：
水銀電解法：分析儀顯示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通過 UV 反應器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
隔膜電解法：分析儀顯示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通過 UV 反應器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
膜電解法：分析儀顯示 0-2%HCl 和 0-1%H2，通過 UV 反應器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
濕氯中的氧氣在線監測系統
驗證和控制膜的氧氣滲透電解池陽側的氧氣濃度可指示出膜的狀況和性能。膜的使用時間越長，因鹽水中的雜質堵塞所產生的變化就越大。在發生某種輕度的堵塞時，須將電上的電解電壓才能在陽處獲得足量的電解。在過某個值之后，H2O 開始分解，形成氧氣。通過對濕中的氧氣進行在線測量，就可產生電解工藝的條件，并且可將這種測量結果用作耗氯裝置（如 EDC 二氯乙烯（C2H4Cl2）裝置）的初始數值，從而保持氧氣（O2）–（Cl2）–乙烯（C2H4）三角形在限以下。
典型測量范圍：0-2%O2（1）
干氯中的氫氣在線監測系統
提供裝置保護，發生氫氣濕中的氫氣（H2）濃度關鍵，尤其是采用膜電解池法生產時。因為膜的損壞，在數秒鐘內即可發生氫氣（H2）與（Cl2）混合。氫氣（H2）和（Cl2）的混合氣可能會發生燃燒或，取決于混合氣中兩種氣體的濃度。出于原因，建議安裝一個在線分析儀系統，以便快速測定濕中的氫氣（H2），從而使氣體組成保持在易燃限以內。
響應時間：T90<15s
典型測量范圍：
水銀電解法：分析儀顯示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通過 UV 反應器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
隔膜電解法：分析儀顯示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通過 UV 反應器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
膜電解法：分析儀顯示 0-2%HCl 和 0-1%H2，通過 UV 反應器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
干氯中的水分在線監測系統
在線測量干燥（Cl2）中的水分（H2O）
監測水分含量，以控制干燥機工藝含水分的（>12mg/l H2O）對于在干燥機后面的其他氯處理中使用的很多材料都具有腐蝕性。因此，需要對進行干燥，以發生腐蝕。具有有限干燥能力的工藝干燥機將執行這一干燥過程。為了在發生飽和時進行再生，需使用多臺干燥機。濕的干燥過程需要通過在線測量（Cl2）中的水分（H2O）進行控制。
典型測量范圍：0-10/0-20/0-200 mg/l H2O（1）
中鹽水中的鈣鎂離子在線監測系統
對鹽水質量進行控制以膜的損壞
從水銀電解法改為膜電解法后，鹽水的純度就變得關鍵。鹽水純化工藝的功能不正常會造成較高的 Ca＋＋和 Mg＋＋濃度，從而可能損害膜的性能。在膜被鈣鹽和鎂鹽堵塞的情況下，用電成本就會不可逆轉地增加。后，可能需要將膜更換。典型測量范圍：
1–20或 1–100µg/l 或 ppm Ca2＋和 Mg2＋（1）
中鹽水中總氮在線監測系統
提供裝置保護，發生三氯化氮。通過在上游控制鹽水中的總氮（TN），可以采取要的工藝措施來在液化過程中形成三氯化氮（NCl3）。使用新開發的 TONI®Special 分析儀并采用具有等摩爾響應的濕法化學氧化技術，可對鹽水中的總氮進行在線測量。
典型測量范圍：0–2.5 mg/l TN（1）
濕氯中的氫氣在線監測系統
提供裝置保護，發生氫氣
濕中的氫氣（H2）濃度關鍵，尤其是采用膜電解池法生產時。因為膜的損壞，在數秒鐘內即可發生氫氣（H2）與（Cl2）混合。氫氣（H2）和（Cl2）的混合氣可能會發生燃燒或，取決于混合氣中兩種氣體的濃度。出于原因，建議安裝一個在線分析儀系統，以便快速測定濕中的氫氣（H2），從而使氣體組成保持在易燃限以內。
響應時間：T90<15s
典型測量范圍：
水銀電解法：分析儀顯示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通過 UV 反應器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
隔膜電解法：分析儀顯示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通過 UV 反應器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
膜電解法：分析儀顯示 0-2%HCl 和 0-1%H2，通過 UV 反應器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
濕氯中的氧氣在線監測系統
驗證和控制膜的氧氣滲透電解池陽側的氧氣濃度可指示出膜的狀況和性能。膜的使用時間越長，因鹽水中的雜質堵塞所產生的變化就越大。在發生某種輕度的堵塞時，須將電上的電解電壓才能在陽處獲得足量的電解。在過某個值之后，H2O 開始分解，形成氧氣。通過對濕中的氧氣進行在線測量，就可產生電解工藝的條件，并且可將這種測量結果用作耗氯裝置（如 EDC 二氯乙烯（C2H4Cl2）裝置）的初始數值，從而保持氧氣（O2）–（Cl2）–乙烯（C2H4）三角形在限以下。
典型測量范圍：0-2%O2（1）
干氯中的氫氣在線監測系統
提供裝置保護，發生氫氣濕中的氫氣（H2）濃度關鍵，尤其是采用膜電解池法生產時。因為膜的損壞，在數秒鐘內即可發生氫氣（H2）與（Cl2）混合。氫氣（H2）和（Cl2）的混合氣可能會發生燃燒或，取決于混合氣中兩種氣體的濃度。出于原因，建議安裝一個在線分析儀系統，以便快速測定濕中的氫氣（H2），從而使氣體組成保持在易燃限以內。
響應時間：T90<15s
典型測量范圍：
水銀電解法：分析儀顯示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通過 UV 反應器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
隔膜電解法：分析儀顯示 0-4%HCl 和 0-2%H2，通過 UV 反應器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
膜電解法：分析儀顯示 0-2%HCl 和 0-1%H2，通過 UV 反應器（Cl2＋H2-->2HCl）（1）
