MEMS玻璃光刻掩膜板 在機(jī)器視覺(jué)、圖像測(cè)量、攝影測(cè)量、三維重建等應(yīng)用中，為校正鏡頭畸變;

確定物理尺寸和像素間的換算關(guān)系;以及確定空間物體表面某點(diǎn)的三維幾何位置與其在圖像中對(duì)應(yīng)點(diǎn)之間的相互關(guān)系，需要建立相機(jī)成像的幾何模型。通過(guò)相機(jī)拍攝帶有固定間距圖案陣列平板、經(jīng)過(guò)標(biāo)定算法的計(jì)算，可以得出相機(jī)的幾何模型，從而得到高的測(cè)量和重建結(jié)果。

產(chǎn)品特性：

 1. 確認(rèn)光學(xué)系統(tǒng)的性能，復(fù)原相機(jī)模型的3D空間至2D空間的一一對(duì)應(yīng)關(guān)系。

   標(biāo)定的作用其一就是為了求取畸變系數(shù)（因?yàn)榻?jīng)過(guò)鏡頭等成像后，或多或少都有畸變），其二是為了得到空間坐標(biāo)系和圖像坐標(biāo)系的對(duì)應(yīng)關(guān)系。

 2. 定位0.001mm；

 3. 相機(jī)參數(shù)標(biāo)定是基于圖像的三維模型重建中的關(guān)鍵步驟，提取標(biāo)定點(diǎn)是準(zhǔn)確完成相機(jī)參數(shù)標(biāo)定的要前提，而棋盤(pán)格標(biāo)定板在三維重建中的應(yīng)用為廣泛。

產(chǎn)品材質(zhì)： 

 1.光學(xué)玻璃  2.陶瓷漫反射 

   桂慶光電提供陶瓷和玻璃兩種基底材料的掩膜版。玻璃材質(zhì)是為常用的一種，光學(xué)玻璃材質(zhì)的掩膜板化學(xué)性能很穩(wěn)定，高！此材料無(wú)雜質(zhì)無(wú)氣泡，是高標(biāo)定板的選材！陶瓷基底的掩膜版具有熱膨脹系數(shù)小、硬度高、性好、熱傳導(dǎo)率低、酸堿性好、不反光等特點(diǎn)，其良好的表面漫反射處理，解決了在應(yīng)用過(guò)程中，前置光源情況下玻璃材質(zhì)標(biāo)定反光的難題。客戶可以根據(jù)自己的需求選用不同材質(zhì)的掩膜標(biāo)定板。

產(chǎn)品描述：

  外形尺寸250*220mm,X軸方向是0-250mm刻度尺，Y軸是0-200mm刻度尺；

  板的周?chē)謩eΦ1mm圓點(diǎn)和1*1mm方格，圓點(diǎn)和方格中間是空心十字線；

  左上角中心是實(shí)心圓點(diǎn)Φ1mm陣列；

  右上角中心是Φ30mm的圓分割成30°、60°、90°扇形；

  左下角中心是Φ30mm的圓分割成4個(gè)45°扇形；

  右下角中心是1*1棋盤(pán)格陣列；

  圍在上下左右4個(gè)大圖形4個(gè)對(duì)角的是Φ10mm的實(shí)心圓和10*10mm方格.

  此板為多圖形、多功能標(biāo)定板，可以滿足影像測(cè)量?jī)x，機(jī)器視覺(jué)，工業(yè)相機(jī)，三維掃描儀等多方面校正補(bǔ)償。

廣泛應(yīng)用于廣泛應(yīng)用于機(jī)器視覺(jué)、半導(dǎo)體行業(yè)（集成電路、分立器件、可控硅）、光電行業(yè)（LED光電子學(xué)器件）、定位測(cè)量光柵、碼盤(pán)、分劃板、光學(xué)器件。