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鉑碳催化劑研磨漿料生產高剪切膠體磨
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鉑碳催化劑研磨漿料生產高剪切膠體磨

產品價格:
118900.00
產品型號:
CMSD2000
產品品牌:
依肯機械
供應商等級:
VIP會員4年
經營模式:
工廠
企業名稱:
上海依肯機械設備有限公司
所屬地區:
上海市
發布時間:
2025/12/17 11:28:16

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周慧玲女士(聯系我時,請說明是在維庫儀器儀表網看到的,謝謝)

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上海依肯機械設備有限公司

會員4年營業執照已上傳

經營模式:工廠

所在地:上海市

主營產品:乳化機,分散機,混合機,均質機,膠體磨,成套設備

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  • 電壓:380
  • 功率:4kw
  • 適用物料:粉體漿料
  • 進料粒度:<100 mm
  • 出料粒度:10 um
  • 設備尺寸:450*350*750 mm
  • 轉速:0-14000

IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產高速研磨機/高速膠體磨改進式/催化劑研磨/炭黑研磨/貴金屬材料研磨 高剪切膠體磨


催化劑漿料制備關鍵點:

穩定均一:①減少尾端顆粒的數量②粒徑分布窄

分散性好:減少鉑炭催化劑大粒子的團聚

 

在漿料生產過程中,常見的問題包括:

1.提高催化劑活性

減小催化劑顆粒尺寸可以有效提升其活性,但未分散的顆粒容易形成大團聚物,導致顆粒尺寸增大、比表面積減小,從而降低催化活性。適當的分散有助于提高催化劑活性,進而影響膜電極組件(MEA)的性能.

2.提高催化劑的穩定性和均一性

燃料電池中使用的鉑炭催化劑要求鉑納米顆粒的粒徑在3-5納米之間,粒徑分布窄,且在炭上均勻分散,不含有害雜質(如氯)。由于3-5納米鉑納米顆粒的表面能較大,容易發生團聚,因此制備出滿足這些條件的鉑碳催化劑工藝難度較高,這也是目前主要依賴進口的原因之一.

3.減少催化劑用量和提高利用率

催化劑層(CL)一直面臨著陰極氧還原反應(ORR)反應動力學緩慢以及質量傳輸過電位過高的問題,其中一個主要原因是CL上催化劑團聚體中離聚物對鉑(Pt)的覆蓋。離聚物覆蓋在Pt表面會減少催化活性位點,導致ORR活性損失,而Pt表面高密度過厚的離聚物層則會導致質量傳輸過電位增加。這些問題都與CL上團聚體的結構密切相關。均一分散的催化劑漿料可以與涂覆工藝相結合,盡量使涂覆層更薄,從而提高催化劑的利用率.

4.連續性生產(穩定性)

分散的鉑炭催化劑會隨著時間推移發生再聚集,因此分散好的漿料需要盡快進行下一工序以形成催化基層。連續分散過程可以與催化劑漿料的涂布過程同步進行,允許在分散后立即使用催化劑漿料進行連續生產催化劑層。雖然在實際生產中,連續生產可以解決部分問題,但體系穩定的漿料可以顯著降低工藝難度。

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有很多應用中,200-600目的顆粒度是不夠的,需要達到1-2微米甚至更小,常用的研磨設備以及研磨方式已經難以滿足此技術要求。上海依肯在傳統膠體磨與均質機的基礎上,研發出了二者相結合的研磨分散機,其磨頭結構采用錯齒形,自上而下齒槽深度由深到淺,定轉子部分間隙理論上能夠實現無限接近,再配合15000RPM的超高轉速,當顆粒進入磨頭腔體之后,瞬間即可被超微粉碎。從磨頭腔體出來后進入分散盤腔內,根據物料的特性及處理量的要求,上海依肯提供2G,4M,6F,8SF不同規格的斜齒,對磨細的顆粒進行二次剪切和分散,防止顆粒抱團。


IKN模塊化設計的主要特點如下:

-直立式腔體結構,物料可以全部進入分散腔;

-無死角;

-良好的表面處理;

-符合CIP/SIP的清洗要求;

-低噪音;

-所有接觸物料的材質均為SS316;

-小試、中試到量產,平穩過渡;

-僅需簡單的更換功能模塊,即可滿足分散-懸浮-均質-乳化的不同要求;

-衛生設計,適合食品及制藥行業;

-可提供特殊材質滿足磨損性及腐蝕性產品處理要求。



研磨分散機參數選型表 

CMSD選型.png

表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節到大允許量的10%

技術及價格請來電:本公司有樣機可供客戶購前實驗,歡迎廣大客戶來我司參觀指導!


 IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產高速研磨機/高速膠體磨改進式/催化劑研磨/炭黑研磨/貴金屬材料研磨 高剪切膠體磨



聯系方式

上海依肯機械設備有限公司

聯系人:
周慧玲女士
手機:
13795214885
傳真:
021-51564113
所在地:
上海市
類型:
工廠
地址:
上海市松江區九新公路865號信頤科技產業園B棟

服務熱線

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QQ:2294898886 

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