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硬脂酸鎂為白色輕松無砂性的細粉;微有特臭;與皮膚接觸有滑膩感。本品在水、乙醇或乙醚中不溶，主要用作潤滑劑、抗粘劑、助流劑。特別適宜油類、浸膏類藥物的制粒，制成的顆粒具有很好的流動性和可壓性。在直接壓片中用作助流劑。還可作為助濾劑、澄清劑和滴泡劑，以及液體制劑的助懸劑、增稠劑。

上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。可根據物料要求進行更換(我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇)IKN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質等功能，設備轉速可達14000rpm，是目前國產設備轉速的4-5倍。

CMD2000模塊主要由兩層分散頭構成，工作時，物料通過投料口進入分散腔，首先到達層分散頭進行處理，由于馬達帶動轉子齒列高速運轉，產生渦流和離心力效應使得物料軸向吸入分散頭，然后沿著定-轉子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用，之后在轉子齒列與定子齒列的強力剪切間隙中物料被強烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時完成第次剪切，接著流出的物料進入第二層分散頭腔體，對處理過的物料再次進行剪切(原理同上)，從而確保混合分散獲得很窄的粒徑分布，獲得更小的液滴和顆粒，生成的混合液穩定性更好，滿足疫苗生產對于粒徑的要求。

CMD2000系列研磨分散機的結構:研式分散機是由錐體,分散機組合而成的高科技產品。

**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

CMD2000研磨分散機為立式分體結構,有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

CMD2000系列研磨分散機設備選型表

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節到**允許量的10%

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