- 電壓:380
- 功率:4kw
- 適用物料:粉體漿料
- 設備尺寸:450*350*750 mm
- 轉速:0-14000
石墨烯催化劑研磨分散機,石墨烯/TiO2復合材料研磨分散機 石墨烯/Pt催化劑研磨分散機,石墨烯催化劑超聲分散機,石墨烯復合材料高壓均質機 ,石墨烯催化劑 加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
超聲分散、濕法機械攪拌混合、球磨、行星式高能球磨、表面改性及靜電吸附等。
石墨烯具有的導電性、導熱性和結構穩定性等性能以及具有改性擔載金屬催化劑的作用,使得石墨烯基催化劑擁有了許多特殊的催化活性。
Li等[30]通過還原氧化石墨烯和H2PtCl6制備出石墨烯/Pt納米復合材料,電化學實驗表明石墨烯/Pt比傳統的Pt催化劑對氧化有更好的效果和穩定性。蘭瑞家等[31]采用水熱法制備出了石墨烯/TiO2復合材料,在紫外光照射下,石墨烯/TiO2復合材料催化降解甲基藍水溶液的活性是TiO2的2.5倍,這種降解效率的提高主要是依賴于復合材料中的石墨烯可以傳導光照TiO2產生的電子,提高了電子空穴對的分離效率。
上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質的物料。研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,機器連續24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了分散盤??筛鶕锪弦筮M行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質等功能,設備轉速可達14000rpm,是目前普通設備轉速的4-5倍。
CMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
CMD2000研磨分散機為立式分體結構,有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質。
研磨分散機的特點:
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨
2、 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5、 的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。



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