聚噻吩導電涂層工業化乳化機，導電聚噻吩涂層管線式高速乳化機，PEDOT高速乳化機，管線式高速乳化機，工業化14000轉高速乳化機

聚噻吩具有良好的化學和電化學穩定性、摻雜水平高、有可逆的摻雜和去摻雜過程、結構多樣性等優異性能，應用域相當廣泛，如電材料、電致變色元件、超電容器、太陽能電池、光電轉換器件材料、電磁屏蔽材料、人造肌肉組織等。影響聚噻吩性能的因素有單體濃度、反應溫度、反應時間、氧化劑種類及濃度等。不同反應溫度對聚噻吩的形貌有較大影響，40°C左右聚噻吩呈樹枝狀網絡形貌，高于或低于40°C時聚噻吩則會聚合成層狀。同時噻吩單體濃度對制得樣品的顏色及聚噻吩合成的效率也有不同程度的影響。電化學氧化聚合法通過控制電化學氧化聚合條件(包括噻吩單體的電解液、支持電解質和溶劑、聚合電位、電流和反應溫度等)，使聚合物在電上沉積制備導電聚噻吩薄膜的方法叫做電化學氧化聚合法。這種方法的優點是產物的機械性能較好、導電率高，并且反應條件比較容易控制、實驗易操作。結果表明，聚噻吩薄膜形貌均勻，具有良好的熱穩定性和抗腐蝕性能。

導電聚噻吩涂層管線式乳化機就是高效、快速、均勻地將一個相或多個相(液體、固體、氣體)進入到另一互不相溶的連續相(通常液體)的過程。而在通常情況下各個相是互不相溶的。當外部能量輸入時，兩種物料重組成為均一相。由于轉子高速旋轉所產生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能，使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液(固/液)，乳液(液體/液體)從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應成熟工藝和適量添加劑的共同作用下，瞬間均勻精細的分散乳化，經過高頻的循環往復，終得到穩定的高品質產品。

IKN管線式高剪切乳化機(分散機、均質機)與臥式乳化機比較:轉速和剪切力:

XX乳化機，3000/4700 RPM直聯電機的轉速決定轉子轉速線速度:V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S作用力:F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1IKN高剪切乳化機，9000/14000RPM通過皮帶加速線速度:V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S作用力:F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1這是乳化和均質的重要因素，相當于后者是者的4-5倍

這是乳化和均質的重要因素，相當于后者是者的4-5倍

設備設計構造:

3000轉乳化機，臥室直聯結構，運行時間長，容易造成軸的偏心，運轉不正常，需要業的人員拆開內部結構更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸IKN高剪切乳化機，立式分體結構，運行時間長，不易造成軸的偏心，容易更換，而且只要更換相應的皮帶，一般的人員可以操作。

密封:

XX乳化機，填料密封或骨架密封，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀IKN高剪切乳化機，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至，可24小時不停運轉，特殊德國PDFE軸封，可以運行10000小時，可選擇德國高品質機械密封，在一般的情況下，我們的機械密封可以承受16bar壓力，根據機械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar，這就決定我們的入口壓力可以達到12-13bar.產品效果:

3000轉乳化機，粒徑細度有限，10微米以下較困難，重復性差，產品粒徑分布不均勻IKN高剪切乳化機，可實現0.1-1微米的顆粒加工，粒徑分布均勻，納米分散乳化

影響均質乳化結果的因素有以下幾點

1均質頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次好)

2均質頭的剪切速率(越大，效果越好)

3均質頭的齒形結構(分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好)

4物料在分散墻體的停留時間，均質乳化時間(可以看作同等的電機，流量越小，效果越好)

5循環次數(越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好)線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

-剪切速率(s-1)=v速率(m/s)g定-轉子間距(m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素:

-轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子間距。IKN定-轉子的間距范圍為0.2~0.4mm

導電聚噻吩涂層管線式高速乳化機，聚噻吩導電涂層工業化乳化機，PEDOT高速乳化機，管線式高速乳化機，工業化14000轉高速乳化機