特點
1、 750mm焦柵設計，帕型-龍格裝置，高真空，分辨率高、靈敏度高等特點；由于機刻光柵可以產生較次的光譜，所以選線更具靈，從而避免光譜干擾.
2、 分析速度快、重復性好、穩定性好。
3、 采用高穩定的激發光源，激發頻率在150—500Hz之間變化，分析不同的樣品，可選擇不同的激發參數，可的分析效果。
4、 采用高集成化的采集和控制系統，自動化程度高。
5、 采用的光電管，具有暗電流小、信噪比高、使用壽命長等特點。。
6、 分析掃描過程可同時對元素進行掃描，掃描過程簡單，可快速分析出每個元素相對于基體元素的偏差。
7、 激發樣品過程中，無需對激發臺進行水冷卻，可連續分析樣品也能較好的數據。
8、測控系統采用單板機測量與控制，與計算機進行數據交換，了運行速度。
9、通過計算機軟件來調整每個通道的光電管負高壓，通道負高壓分8檔調整，從而大大地通道的利用率和分析譜線的線性范圍在分析不同材質中的采用，減少了通道的采用數量，降低了成本。
10、可用于多種基體分析：Fe、Co、Cu、Ni、Al、Pb、Mg、Zn、Sn等。
11、采用純中文Windows系統下的操作軟件，操作簡單易懂。
12、計算機軟件建有數據庫系統，方便了測量數據的查詢與打印，也可通過網絡遠程傳輸數據，方便快捷。
13、各項系統供電，組成單元，使用方便，維護簡單。
14、采用光學部分恒溫措施，了儀器的正常運行，從而降低了對環境的要求。
15、采用高直線電機進行入縫掃描，速度快，度高。
16、采用整體出射狹縫，方面增加通道。
技術指標
1、激發光源：
1）供電電壓：50Hz、220V&plun;1%
2）輸入功率：1.0KVA
3）充電電容：預燃7.5μF，曝光1.5μF
4）峰值電流：預燃120A， 曝光30A
5）主回路峰壓：300VDC(采用自動調整峰壓)
6）引燃電路：脈沖幅度：+15KV
輔助間隙：采用隧道二管
放電頻率：400 Hz /200 Hz（可選擇150Hz--500Hz）
2、激發臺
1）樣品臺分析間隙：4mm
2）充氬氣樣品架，無需水冷卻
3）分析時間間隔：一般不到1分鐘
3、分光儀
1）分析波段范圍：160~450nm
2）光柵：曲率半徑 750mm
刻劃密度：2400線/mm
刻劃面積：30×50mm2
閃耀波長（）：300nm
線色散：0.55nm/mm
3）入射狹縫寬度：20μm
4）出射狹縫寬度：50μm、75μm
5）光電管：直徑28mm,10級側窗管，熔融石英或玻璃外殼
6）允許多通道：31個（可擴張到64個通道）
7）分光儀局部恒溫：38℃&plun;0.2℃
4、測控系統
1）測控系統：采用單板機測量和控制，與計算機進行數據交換
2）測量方式：分段積分
積分電容容量：0.047μF
重現性：RSD≤0.2%
3）光電管高壓電源：
電壓：-1000V
穩定度：8小時0.5%
高壓調節：從-550V到-1000V變化，分8（0-7）檔調整
高壓設置：用戶通過計算機軟件改變
