安捷倫臺式HP 4500
ICP-MS，該系統被廣泛應用于半導體行業。因為半導體行業對檢出限要求高，通常要求ppt級的檢出限，這也就需要儀器具備高的靈敏度，同時
ICP-MS質譜儀的同時多元素分析能力也大大滿足了半導體行業的需求。
在半導體行業中，的分析難點即為痕量K、Ca、Na、
Mg、Fe的分析，由于ICP-MS固有的質譜干擾很難獲得上述痕量元素的準確分析結果。HP
4500次引入了冷等離子體的感念，由于的冷等離子需要等離子體電勢顯著降低，以接口區域的二次放電導致的多原子電離干擾，安捷倫科技的屏
蔽炬技術能夠上述難題，實現了半導體行業ppt量級的K、Ca、Na、Mg、Fe元素的準確分析，該技術也成為半導體行業痕量分析上述元素的標準
技術。
