杭州工業去離子水設備

電鍍涂裝行業用水設備, 單晶硅超純水設備, 半導體用水設備

制備超純水的工藝大致分成以下幾種：

　　1、采用離子交換樹脂制備超純水的傳統水處理方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→陽床→陰床→混床（復床）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點　　

        2、采用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合的方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→混床（復床）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點

　　3、采用反滲透水處理設備與電去離子（EDI）設備進行搭配的的方式，這是一種制取超純水的新工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→電去離子（EDI）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點
　
三種制備超純水的工藝比較 ：

　　 目前制備電子工業用超純水的工藝基本上是以上三種，其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎上進行不同組合搭配衍生而來。現將他們的優缺點分別列于下面：

　　1、種采用離子交換樹脂其優點在于初投資少，占用的地方少，但缺點就是需要經常進行離子再生，耗費大量酸堿，而且對環境有一定的破壞。

　　2、第二種采用反滲透作為預處理再配上離子交換設備，其特點為初投次比采用離子交換樹脂方式要高，但離子設備再生周期相對要長，耗費的酸堿比單純采用離子樹脂的方式要少很多。但對環境還是有一定的破壞性。

　　3、第三種采用反滲透作預處理再配上電去離子（EDI）裝置，這是目前制取超純水經濟，環保用來制取超純水的工藝，不需要用酸堿進行再生便可連續制取超純水，對環境沒什么破壞性。其缺點在于初投資相對以上兩種方式過于昂貴。

 電鍍涂裝行業用水設備, 單晶硅超純水設備, 半導體用水設備

電鍍涂裝行業中的應用：

     電鍍涂裝行業中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導率在15uS/cm-5uS/cm以下的純水，另外在鍍件漂洗時也需用電導率在10uS/cm以下純水來清洗，此外超濾和反滲透還可以用來回收漂洗液中的貴重金屬離子，滲透過來的水再返回作鍍件清洗之用。

產品典型工藝流程：

     ☆ 自來水----水泵----多介質過濾器----活性炭過濾器----自動加藥裝置----保安過濾器----高壓泵----反滲透----中間水箱----高壓泵----二級反滲透----純水箱----純水泵   新工藝
    ☆  漂洗水----水箱----水泵----多介質過濾器----保安過濾器----超濾----電鍍液回收桶
    ☆  漂洗水----水箱----水泵----多介質過濾器----保安過濾器----超濾----電鍍液回收桶----高壓泵----反滲透----清洗水箱

電鍍行業實行清潔生產：

     清潔生產是指不斷采取改進設計、使用清潔的能源和原料、采用先進的工藝技術與設備、改善管理、綜合利用等措施，從源頭削減污染，提高資源利用效率，減少或者避免生產、服務和產品使用過程中污染物的產生和排放，以減輕或者消除對人類健康和環境的危害。

     國際上早已制定了電鍍行業清潔生產的行業標準，我國在2006年國家環保總局組織相關人員研究并起草了《清潔生產技術要求 電鍍行業》標準，這無疑促進了國內電鍍行業走清潔生產的道路，為企業開展清潔生產提供技術導向，也可以為企業清潔生產績效公告提供依據。

電鍍生產線全閉路生產及零排放水處理產品：

     電鍍生產線全閉路生產及零排放水處理系統包括電鍍前電鍍液配制需要的純水處理系統、電鍍漂洗廢水中稀有金屬回收漂洗水循環利用廢水零排放系統。

部分產品規格：

EDI工作原理:
     EDI模塊將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI工作原理如圖所示。EDI模塊中將一定數量的EDI單元間用格板隔開，形成濃水室和淡水室。又在單元組兩端設置陰/陽電極。在直流電的推動下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統，成為濃水. EDI設備一般以二級反滲透（RO）純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm（25℃)。EDI純水電阻率可以高達18 MΩ.cm(25℃)，但是根據去離子水用途和系統配置設置，EDI超純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。 

     EDI技術被制藥工業、微電子工業、發電工業和實驗室所普遍接受。在表面清洗、表面涂裝、電解工業和化工工業的應用也日趨廣泛。