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VEW

該系統由VEW與不來梅應用光學研究所（BIAS）合作開發, 已獲保護。 北京德朗檢視科技有限公司中國代理   條紋反射測量是一種高靈敏, 非相干的光學全場測量技術。主要用于對任何材質的光潔表面進行高的曲率和三維坐標測量。     該系統結構簡單, 它主要由一個TFT顯示器和一個高分辨率的CCD照相機組成。系統還配備了兩只激光二級管, 以方便用戶對被測物進行初始定位。      測量時TFT上顯示由計算機生成的條紋模式, CCD照相機獲取經被測物體表面反射回的條紋圖像。由于物體表面形狀的調制作用, CCD上得到的將是一幀變形的條紋圖。     采用先進的條紋相移技術, 通過信號解調將直接得到被測物體表面的法線和梯度分布。在此基礎上進行進一步的微分和積分操作后, 就可得到物體的曲率和三維坐標分布。     由于物體到TFT的較大距離, 使得表面法線的變化對反射光線的偏移量有顯著的放大作用, 以至系統在物體高度方向的坐標分辨率可達納米量級。   桌面型測量儀 典型配置技術參數 (所有參數根據用戶測量要求可專門設計): 尺寸(桌面型): 500x500x790mm 坐標分辨率: 深度方向: 1nm, 橫向: 測量范圍/1392(1040)CCD像素 曲率分辨率: 0.05D (相應曲率半徑20m) 測量時間: 1s...600s (根據用戶期望的分辨率可調) 測量范圍: 110 x 80mm        該系統的另一個重要應用是對飛機表面面形結構缺陷的測量。右圖所示為移動型系統在用于疲勞加載測試的飛機上的測量現場。       利用真空吸附裝置, 測量系統可緊密的覆著于飛機表面, 定量的檢測鉚釘周圍材料的形變。通過比較前后不同時間段內材料形變的變化, 從而對飛機結構的安全性進行評估。 普通的非相干光學測量技術, 如條紋投影, 激光三角等, 對于光滑表面無能為力。       條紋反射系統則充分利用了被測物體對光的反射作用, 不僅使光滑表面的測量成為可能, 而且將測量提高到相干光學測量的水平。       同相干測量相比, 該系統得益于VEW公司新開發的照相機和系統校準技術, 可以獲得物體的曲率和三維坐標分布, 而且受周圍環境的影響很小, 可以實現在線測量。       同其他超高接觸式三坐標測量儀相比, 該系統更是具有速度快, 數據量大的優點, 可以在幾秒鐘內獲得上百萬個數據點。系統的各系列型號適用于尺寸, 曲率分布, 反光率等各不相同的表面, 甚至液面, 同時可根據用戶需求專門設計。        該系統已成功應用于鏡片加工設備的質量檢測(Satisloh公司),精密加工工件表面形狀測量(不來梅大學精密制造實驗室LFM), 大型太陽能聚光鏡面形測量(Fraunhofer太陽能研究所 ISE )等領域。      其潛在應用還包括鍍膜, 噴漆表面(如汽車,飛機外殼)的質量控制, 表面粗糙度分析等。