磁控濺射真空鍍膜機其工作原理是在真空狀態下，使用弧光放電和輝光放電的工作原理。在金屬和非金屬的工件表面上鍍制金色的氮化鈦，黑色碳化鈦，七彩的氮氧化鈦等。亦可鍍防腐蝕膜（如AL,Cr不銹鋼及TiN等）和耐磨膜，膜層與基底結合牢固，利用濺射工藝進行鍍膜，可提高膜層的附著力、重復性、致密度、均勻度等特點。適合于塑料制品、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制品等、工藝品、塑料手機殼、電子產品、建材等行業，具有很好的發展前景。
振華真空生產的磁控濺射鍍膜機的主機控制采用可編程序控制器（PLC）+觸摸屏（HMI）組合電氣控制系統。全自動控制，配置先進大功率磁控電源，恒流輸出，克服靶中毒。
磁控濺射全自動鍍膜設備技術參數說明
設備型號：ZCK-1200，ZCK-1400，ZCK-1600，ZCK-1800
真空室尺寸：1200×1500，1400×1950，1600×1950，1800×1950
制膜種類：多功能金屬膜、復合膜、透明導電膜、增返射膜、電磁屏蔽膜、裝飾膜等
電源類型：直流磁控電源、中頻磁控電源電源、高壓離子轟擊電源
圓柱靶：直流磁控靶、中頻孿生靶、平面靶
真空室結構：立式雙開門、立式單開門
真空系統：滑閥泵＋羅茨泵＋擴散泵＋維持泵（或選配：分子泵、深冷泵、深冷系統）
充氣系統：質量流量控制儀（1-4路）
極限真空：6×10－4pa（空載、凈室）
抽氣時間：空載大氣抽至5×10－3pa小于15分鐘
工件旋轉方式：6軸/8軸/9軸公自轉/變頻無級調速
控制方式：手動＋半自動＋全自動一體化/觸摸屏＋PLC
備注：真空室尺寸可按客戶產品及特殊工藝要求訂做
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