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手動光刻機 曝光機 光刻機 半導體 mems
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  • 手動光刻機 曝光機 光刻機 半導體 mems
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手動光刻機 曝光機 光刻機 半導體 mems

產品價格:
電議
產品型號:
手動光刻機
供應商等級:
企業未認證
經營模式:
工廠
企業名稱:
新耕(上海)貿易有限公司
所屬地區:
上海市
發布時間:
2013/8/20 10:17:38

021-58200880-886      18616823896

盛先生先生(聯系我時,請說明是在維庫儀器儀表網看到的,謝謝)

企業檔案

新耕(上海)貿易有限公司

企業未認證營業執照未上傳

經營模式:工廠

所在地:上海市

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  • 品牌/商標:mikasa
  • 企業類型:制造商
  • 新舊程度:全新
  • 原產地:日本

手動光刻機,便宜,性能好。
產地;日本
可根據客戶具體要求,定制。
適合研發類用戶

曝光類型:單面
◆曝光面積:≥φ115mm
◆曝光不均勻性:≤±3%
◆曝光強度:≥20mw/cm2
◆曝光分辨率:1μm
◆曝光模式:可選擇曝光或套刻曝光模式
◆掃描范圍:X:±40mm   Y:±35mm
◆對準范圍:X、Y粗調±3mm、細調±0.3mm Q粗調±15°、細調±3°
◆對準:1μm
◆分離量:0~50μm可調
◆接觸-分離漂移:≤1μm
◆密著曝光方式:密著曝光可實現硬接觸、 軟接觸和微力接觸曝光;
◆找平機構:三點式自動找平;
◆顯微系統:雙視場CCD系統,顯微鏡45X~ 300X連續變倍(物鏡1.125X~7.5X),雙 物鏡距離可調范圍:11mm~100 mm,計算機圖像處理系統,19″液晶監視器;
◆掩模版尺寸:2.5″×2.5″(或3″×3″) 4″×4″、5″×5″
◆基片尺寸:φ2″、φ3″、φ4″
◆基片厚度:≤5 mm
◆曝光燈功率:直流350W
◆曝光定時:0~999.9秒可調
◆對準方式:切斯曼對準機構
◆曝光頭轉位:氣動
◆電源:單相AC220V 50Hz 功耗≤1kW
◆潔凈空氣壓力:≥0.4Mpa
◆真空度:-0.07MPa~-0.09Mpa
◆尺寸: 920×680×1600(L×W×H)mm;
◆重量:~170kg

聯系方式

新耕(上海)貿易有限公司

聯系人:
盛先生先生
手機:
18616823896
所在地:
上海市
類型:
工廠
地址:
上海市浦東新區東方路800號寶安大廈800號1301

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QQ:196325136 
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