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PECVD 等離子體增強化學氣相沉積設備 薄膜沉積設備 SiNx和SiO2薄膜 半導體二氧化硅 等
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PECVD 等離子體增強化學氣相沉積設備 薄膜沉積設備 SiNx和SiO2薄膜 半導體二氧化硅 等

產品價格：
電議
產品型號：
plasma therm
供應商等級：
免企業未認證
經營模式：
工廠
企業名稱：
新耕（上海）貿易有限公司
所屬地區：
上海市
發布時間：
2013/8/9 10:17:49

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盛先生先生(聯系我時，請說明是在維庫儀器儀表網看到的，謝謝)

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新耕（上海）貿易有限公司

免企業未認證證營業執照未上傳

經營模式：工廠

所在地：上海市

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  • 企業類型：制造商
  • 新舊程度：全新
  • 原產地：美國
等離子體增強化學氣相沉積PECVD，成熟的技術，龐大的裝機量，是VLSI（標準樣片公司）供應商。有單腔手動方片。性價比很高。特別適合高校和研究單位。
PECVD系統能夠沉積高質量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜、硬質薄膜、光學薄膜和炭納米管（CNT）等。可選用射頻（RF）、空陰極高密度等離子體(HCD)源、感應耦合等離子體（ICP）源。該公司采用先進技術和穩定可靠的設計為您提供多方位的服務。

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新耕（上海）貿易有限公司

聯系人：
盛先生先生
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所在地：
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類型：
工廠
地址：
上海市浦東新區東方路800號寶安大廈800號1301

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