EDX8000 x熒光光譜儀
產品名稱：x熒光光譜儀
產品型號：EDX8000
簡單介紹：用于RoHS檢測和鍍層檢測
EDX8000 x熒光光譜儀的詳細說明
x熒光光譜儀EDX8000（XRF EDX8000）x熒光光譜儀EDX8000技術參數
分析：0.05％
分析范圍：1ppm-99.9％
測量元素：從硫至鈾等75種元素
測量對象：粉末、固體、液體分析電鍍溶液中的金屬離子濃度可分析10層以上的鍍層測試鍍層薄至0.005μm
步進小距離：0.01mm
測量時間：60-300s
工作溫度：13-30℃
相對濕度：≤70％
重量：30kg 工作電壓：AC110V／220V
配置：單樣品腔計算機、噴墨打印機，硅針半導體探測器，放大電路，高低壓電源X光管。
x熒光光譜儀EDX8000特點：定位測量系統，用于RoHS檢測和鍍層檢測雙激光定位系統，50至100倍物體放大逐點測試被測對象，并給出完整的含量和鍍層的平面分析圖譜對各個檢測點的數據結果進行綜合分析，并將結果顯示出來。
產品名稱：x熒光光譜儀
產品型號：EDX8000
簡單介紹：用于RoHS檢測和鍍層檢測
EDX8000 x熒光光譜儀的詳細說明
x熒光光譜儀EDX8000（XRF EDX8000）x熒光光譜儀EDX8000技術參數
分析：0.05％
分析范圍：1ppm-99.9％
測量元素：從硫至鈾等75種元素
測量對象：粉末、固體、液體分析電鍍溶液中的金屬離子濃度可分析10層以上的鍍層測試鍍層薄至0.005μm
步進小距離：0.01mm
測量時間：60-300s
工作溫度：13-30℃
相對濕度：≤70％
重量：30kg 工作電壓：AC110V／220V
配置：單樣品腔計算機、噴墨打印機，硅針半導體探測器，放大電路，高低壓電源X光管。
x熒光光譜儀EDX8000特點：定位測量系統，用于RoHS檢測和鍍層檢測雙激光定位系統，50至100倍物體放大逐點測試被測對象，并給出完整的含量和鍍層的平面分析圖譜對各個檢測點的數據結果進行綜合分析，并將結果顯示出來。
