EMITECH K450X/K400X蒸發鍍碳儀
　　
　　K450X可使用數種碳絲在真空下進行鍍膜。蒸鍍為各個方向，全自動操作系統使得工作時間相對減少，5分鐘。
　　系統采用低電壓，大電流，電之間放置碳絲。
　　電裝置上裝備了保護快門，保護樣品在蒸碳除氣過程中免受熱輻射損害。當完成了這個過程，快門自動回縮，并且功率加到電上，從而引發了熔融碳絲的快速蒸發或稱“閃蒸”。然后，快門回到了保護位置。
　　控制可被預先選擇，以允許使用不同類型的碳絲。
　　由于樣品臺到電之間的距離可調以及全自動控制功能，本儀器可進行重復的蒸鍍沉積厚度。真空過程和外部旋轉真空泵均由本儀器控制。
　　
　　儀器特點
　　● 全自動控制
　　● 自動保護快門
　　● 沉積厚度均勻，可使用碳絲或碳棒
　　● 微控制器全自動控制，也可選擇手動設置參數控制
　　● 菜單驅動“用戶”鍵輸入
　　
　　儀器優點
　　● 容易操作
　　● 在碳絲除氣過程中保護樣品
　　● 可進行復型樣品制備
　　● 多種用戶都容易操作
　　
　　性能指標
　　儀器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H
　　工作腔室：硼硅酸鹽玻璃165mm Dia x 125mm H
　　鐘罩：聚碳酸酯
　　重量：18Kg
　　碳源：碳絲
　　樣品臺：直徑為60 mm（到電距離為60mm），
　　具有傾斜裝置的旋轉臺
　　真空范圍：ATM - 1x10-2 mbar
　　安培計：0.50 Amps
　　低電壓：25 伏
　　除氣電流：可根據碳源類型選擇。
　　電源：230 伏 50Hz (10 amp max. 包括泵)