本公司生產(chǎn)的ITO導(dǎo)電玻璃，采用生產(chǎn)設(shè)備，規(guī)范、嚴(yán)格的生產(chǎn)工藝。在高真空環(huán)境下獲得均勻、至密、透過(guò)率高的透明氧化銦錫導(dǎo)電膜。玻璃厚度0.4MM～5MM.被廣泛應(yīng)用于TN、STN、HTN、型液晶顯示器面板及觸摸屏面板，電阻值可獲2Ω／□。常規(guī)產(chǎn)品30Ω／□～500Ω／□及產(chǎn)品2Ω／□～30Ω／□均顯示出穩(wěn)定的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)，月產(chǎn)量達(dá)36萬(wàn)片。
　　
　　一、ITO鍍膜原理
　　ITO鍍膜玻璃是采用浮法玻璃基片經(jīng)切割，磨邊，拋光和清洗后，在真空和高溫狀況下通過(guò)磁控濺射在其表面分別沉積二氧化硅和氧化銦錫透明導(dǎo)電膜，作為液晶顯示器件的導(dǎo)電基板。
　　
　　二、ITO玻璃產(chǎn)品性能
　　玻璃基片的微觀波紋度
　　厚度／mm 玻璃基片的微觀波紋度
　　拋光浮法玻璃特平浮法玻璃普通浮法玻璃
　　1.10£0.05µm／20mm£0.10µm／20mm£0.15µm／20mm
　　0.70£0.08µm／20mm£0.13µm／20mm£0.20µm／20mm
　　0.55£0.10µm／20mm£0.18µm／20mm£0.25µm／20mm
　　0.50£0.10µm／20mm£0.18µm／20mm£0.25µm／20mm
　　0.40£0.20µm／20mm£0.25µm／20mm£0.30µm／20mm
　　
　　ITO導(dǎo)電膜層的性能規(guī)格
　　規(guī)格方電阻（W／œ）透過(guò)率（％）蝕刻時(shí)間／s 膜厚
　　150Ω≦150≧87.0≦30 200ű50Å
　　125Ω≦125≧87.0≦35 200ű50Å
　　100Ω≦100≧87.0≦40 230ű50Å
　　80Ω≦80≧86.0≦45 300ű50Å
　　60Ω≦60≧85.0≦60 350ű50Å
　　50Ω≦50≧84.0≦65 400ű50Å
　　40Ω≦40≧82.0≦70 500ű100Å
　　30Ω≦30≧80.0≦100 650ű100Å
　　20Ω≦20≧80.0≦140 950ű100Å
　　15Ω≦15≧85.0≦ű150Å
　　10Ω≦10≧82.0≦ű200Å
　　二氧化硅膜厚≧250Å

　　三、ITO鍍膜產(chǎn)品系列
　　基片尺寸
　　14″×16″／14″×14″
　　300×300mm／300×350mm
　　300×360mm／370×470mm
　　（其它尺寸可按客戶要求調(diào)整）
　　基片厚度
　　0.4mm～5 mm
　　
　　四、應(yīng)用范圍
　　1.LCD行業(yè)用各類TN、STN型ITO導(dǎo)電玻璃
　　2.觸摸屏行業(yè)用高方阻（200-500Ω／□）ITO玻璃
　　3.其他各類真空鍍膜產(chǎn)品

　　應(yīng)用：液晶顯示器（LCD）、觸摸屏（TP）、電致發(fā)光顯示器（ELD）、太陽(yáng)能電池、汽車后視鏡、手機(jī)MP3鏡面屏、各類透明導(dǎo)電膜等。