•測量原理
-斜角入射干涉
•非接觸式檢測
-無破壞,無污染,不變形
•準確
-提供測量
•快速反應3~5秒出結果
-允許快速顯影,進行工藝監控
-在制造中如出現質量問題,可快速停止操作,不良品的出現
•靈活易操作,檢測品無
•快速提供的N次微觀計檢測
•NIST跟蹤系統進行校準和確認反常信號
-在臨界處也能檢測數據的完整
•多功能用途
-在實驗室或車間進行較寬物體的平坦度檢測
-擴散表面無問題
-30μm動態范圍(定單延伸范圍~100μm)
•廣泛的應用范圍:
-半導體行業——晶圓(Si,SiC,砷化鎵,藍寶石,氮化鎵),磁盤,光罩等;
-工業——燃料器(噴油嘴),滾動軸承,離合器,密封件等;
•多種被測物材料
-陶瓷,金屬,玻璃,聚合物等
-經研磨,拋光,蝕刻等過程后的部件
•標準測量
-平坦度,譜線輪廓,球面半徑等。


