我公司為了滿足國內電子行業中大量應用酸蝕刻技術加工各種硅晶片、液晶顯示器鋁鍍膜、鋁電箔等電子產品的要求，研制開發出了凈高純化學試劑的精餾裝置。
酸蝕刻技術對化學試劑的純凈度有著高的要求，達不到要求的化學試劑中的某些特定離子濃度導致電子產品被污染而報廢，這就需要提供高純潔凈度的化學試劑來滿足電子行業的需要。
我公司具有二十多年的生產經驗，為國內眾多高純試劑生產企業提供了多種產品的精餾裝置，生產出的高純化學試劑產品質量了SEMI-C7、C8、C12標準。
目前，我公司的凈高純化學試劑精餾裝置二十多個品種、一型號規格，是國內能夠提供大型、多品種高純試劑精餾裝置的生產企業。
我公司研制開發的電子工業凈高純化學試劑（、鹽酸、硝酸等）精餾裝置技術參數與特性：
1、生產裝置規模：1000——5000噸/a（單一品種可按用戶要求設計）；
2、生產裝置高度：4——6米（不同品種，高度不一）；
3、產品質量：控制0.3um顆粒，單項金屬元素1ppb以下；
4、裝置結構特性：塔內裝有氣、液分布與再分布器；
5、運轉方式：連續性生產；
6、技術特性：型生產裝置。
酸蝕刻技術對化學試劑的純凈度有著高的要求，達不到要求的化學試劑中的某些特定離子濃度導致電子產品被污染而報廢，這就需要提供高純潔凈度的化學試劑來滿足電子行業的需要。
我公司具有二十多年的生產經驗，為國內眾多高純試劑生產企業提供了多種產品的精餾裝置，生產出的高純化學試劑產品質量了SEMI-C7、C8、C12標準。
目前，我公司的凈高純化學試劑精餾裝置二十多個品種、一型號規格，是國內能夠提供大型、多品種高純試劑精餾裝置的生產企業。
我公司研制開發的電子工業凈高純化學試劑（、鹽酸、硝酸等）精餾裝置技術參數與特性：
1、生產裝置規模：1000——5000噸/a（單一品種可按用戶要求設計）；
2、生產裝置高度：4——6米（不同品種，高度不一）；
3、產品質量：控制0.3um顆粒，單項金屬元素1ppb以下；
4、裝置結構特性：塔內裝有氣、液分布與再分布器；
5、運轉方式：連續性生產；
6、技術特性：型生產裝置。
