一、主要特點
　　主要用于半導體硅晶片檢測、LCD液晶屏檢測、實驗室材料分析及其他精密工程檢測領域，可對樣品進行明場、暗場及簡易偏光觀察。

　　二、儀器介紹
　　1）系統采用無限遠平場消色差、長工作距、明暗場兩用物鏡，成像清晰、像面平坦
　　2）配備反射式柯拉照明系統，為不同倍率的物鏡提供均勻充足的照明
　　3）正像三通觀察筒，25°傾斜，大的了觀察的舒適性與操作的適應性
　　4）配備了6"帶離合器機械平臺，行程158＊158mm，可快速移動
　　5）人機學設計，高剛性鏡臂，“Y”型底座，調焦機構采用前置式操作控制，粗微調同軸
　　6）光源采用寬電壓數字調光技術，具有光強設定與復位功能
　　7）可選配攝影攝像裝置、簡易偏光裝置、干涉濾光片、測微尺等附件，拓展應用領域

　　三、技術參數
　　光學系統：無限遠色差校正光學系統
　　物鏡：無限遠平場消色差，長工作距金相物鏡（明暗場兩用），5X、10X、20X、50X、80X
　　目鏡：高眼點平場目鏡，PL10X，線視場φ22mm
　　高眼點平場目鏡，PL15X，線視場φ16mm
　　觀察筒：正像，鉸鏈式三目，25°傾斜，分光比：雙目100％，三目100％
　　照明系統：反射式柯拉照明，明暗場切換，帶簡易偏光接口，12V／100W鹵素燈，預置中心采用數字調光，具有光強設定與復位功能，帶針孔光闌
　　調焦機構：粗微調同軸，帶粗調上限位、松緊調節裝置和隨機限位裝置
　　粗調行程：33mm（焦后1mm），微調：0.001mm
　　樣品高度：32mm
　　物鏡轉換器：內定位、內傾式、五孔、明暗場兩用物鏡轉換器
　　載物臺：6英寸矩形，機械移動平臺200mmX200mm，移動行程：158mmX158mm
　　低位同軸調節，帶離合器控制手柄，可快速移動
　　機架：的人機工程學設計，高剛性鏡臂，“Y”型底座，前置式操作控制
　　
　　四：選購附件：攝影攝像裝置、簡易偏光裝置、干涉濾光片、測微尺等。