SW-6500D型多晶硅過程氣體分析系統
系統介紹：
SW-6500D型多晶硅過程氣體分析系統可連續監測工業硅提純的三氯氫硅氫還原工藝中氫氣的氧含量和微水含量以及在尾氣管道保護氣氮氣的氧含量和微水含量，從而后提煉純硅的品質。
系統特點：
取樣探頭為可插拔式探頭，方便更換濾芯
過濾器可過粉塵和硅粉，過濾為0.3μm
大屏幕現場就地顯示
采用陶瓷阻式分析儀
技術參數：
型號：SW-6500D
信號輸出：4-20 mA輸出
響應時間：T90＜30s
工作溫度：-20º～＋60º
電源：220 VAC
護等級：IP65
系統部件：316L不銹鋼
爆標準：合EEx ia IIC T4
微量水分析儀：
測量范圍：＋20～-100℃
：＋20～-60℃范圍內為&plun;1º，-60～-100℃范圍內為&plun;2º
工作壓力：真空～40 MPa
爆標準：非現場顯示型合EEx ia IIC T4
氧含量分析儀：
測量范圍：0-25％（量程任選）
：＜1％FS
系統介紹：
SW-6500D型多晶硅過程氣體分析系統可連續監測工業硅提純的三氯氫硅氫還原工藝中氫氣的氧含量和微水含量以及在尾氣管道保護氣氮氣的氧含量和微水含量，從而后提煉純硅的品質。
系統特點：
取樣探頭為可插拔式探頭，方便更換濾芯
過濾器可過粉塵和硅粉，過濾為0.3μm
大屏幕現場就地顯示
采用陶瓷阻式分析儀
技術參數：
型號：SW-6500D
信號輸出：4-20 mA輸出
響應時間：T90＜30s
工作溫度：-20º～＋60º
電源：220 VAC
護等級：IP65
系統部件：316L不銹鋼
爆標準：合EEx ia IIC T4
微量水分析儀：
測量范圍：＋20～-100℃
：＋20～-60℃范圍內為&plun;1º，-60～-100℃范圍內為&plun;2º
工作壓力：真空～40 MPa
爆標準：非現場顯示型合EEx ia IIC T4
氧含量分析儀：
測量范圍：0-25％（量程任選）
：＜1％FS
