真空鍍膜電源
　　成都市新都道和電工研究所研發的DHEP系列逆變偏壓電源主要用于多弧離子鍍膜、磁過濾電弧離子鍍膜、直流磁控濺射鍍膜、非平衡磁控濺射鍍膜和孿生靶中頻磁控濺射鍍膜、等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）等。主要作用：對被鍍工件表面的輝光放電清洗、鍍膜前的離子轟擊、鍍膜時的離子加速等。合理選用偏壓電源可以地抑制工件表面打火，明顯鍍件的成品率、表面光潔度和膜基結合力。DHEP系列偏壓電源是傳統直流偏壓電源的更新換代產品。
　　
　　主要特點
　　1.采用的開關電源技術，具有體積小、效率高、運行穩定、噪聲低、對干擾小等優點。DHEP系列偏壓電源在和鍍膜工藝的穩定性上顯示出明顯的優勢。
　　2.具備自動穩壓功能，可在電壓和負載波動情況下，電源、穩定地工作，充分鍍膜工藝的重復性。
　　3.針對實際工作時存在的頻繁打火現象，設計了多重實用保護措施。DHEP系列電源能在頻繁打火時充分保護電源及生產工件不被損壞，并且能連續穩定工作。
　　4.可選擇近地手動控制、遠端手動控制、模擬量控制接口和數字控制接口。
　　
　　主要技術參數
　　1.輸入電壓：AC380V／220VAC 50Hz
　　2.工作效率：≥90％
　　3.輸出電壓：0-10KV 連續可調
　　4.輸出電流：0-1A連續可調
　　5.輸出紋波：≤0.1％）
　　6.控制：≤1％
　　
　　7.控制模式：恒流／恒壓／恒功率可選
　　8.外部接口：PLC模擬信號／RS485可選
　　9.緣電阻：≥200MΩ
　　10.緣耐壓：≥1500V／1分鐘
　　11.環境溫度：0～50℃
　　12、保護方式：具有過壓、過流、缺相、過載等保護功能。告警功能：具有電流告警、短路告警功能。
　　（可根據客戶需求定做）