ABL2000氣浮平臺
1專為晶片成像/缺陷探測/涂覆應用設計
2運動平滑,速度穩定性突出
3直線編碼器或激光干涉儀反饋
4行程達1.2米
5全預加負載氣浮導軌(空氣軸承)
6非接觸設計
行程≤1200mm
±0.50um
重復定位±0.20um
直線度±0.25um
平面度±0.25um

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ABL2000氣浮平臺
1專為晶片成像/缺陷探測/涂覆應用設計
2運動平滑,速度穩定性突出
3直線編碼器或激光干涉儀反饋
4行程達1.2米
5全預加負載氣浮導軌(空氣軸承)
6非接觸設計
行程≤1200mm
±0.50um
重復定位±0.20um
直線度±0.25um
平面度±0.25um