美國Proto Flex公司PECVD(等離子增強化學氣相沉積)系統能夠沉積高質量SiN、SiO、SiO2薄膜、Si3N4
薄膜、非晶硅、碳化硅、太陽能材料、類金剛石、類金剛石薄膜、硬質薄膜、光學薄膜等多種薄膜材料
和炭納米管(CNT)等。可選用射頻(RF)、空陰極高密度等離子體(HCD)源、感應耦合等離子體(ICP)
源。該公司采用先進技術和穩定可靠的設計為您提供多方位的服務。
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