產品分類
立式 丨氧化/擴散/退火/LPCVD/ALD設備
所屬分類：
產品展示
半導體芯片設備
立式爐管設備
ALD設備
概要：
?適用領域：集成電路、先進封裝 Relevant Industries: Integrated Circuits, Advanced Packaging ?適用材料：Si Suitable for Processing: Silicon (Si) ?晶圓尺寸：12/8 英寸 Wafer Size: 12/8 inch ?適用工藝：氮化硅(SiN)、二氧化硅(SiO2)等膜層的沉積 Silicon Nitride (SiN)、 Silicon Dioxide（SiO2）, and other film layers
關鍵詞：
臥式爐
立式 丨氧化/擴散/退火/LPCVD/ALD設備
產品應用/Product Applications：
♦適用領域：集成電路、先進封裝
Relevant Industries: Integrated Circuits, Advanced Packaging
♦適用材料：Si
Suitable for Processing: Silicon (Si)
♦晶圓尺寸：12/8 英寸
Wafer Size: 12/8 inch
♦適用工藝：氮化硅(SiN)、二氧化硅(SiO2)等膜層的沉積
Silicon Nitride (SiN)、 Silicon Dioxide（SiO2）, and other film layers
技術指標/Technical Indicators：
♦制程溫度范圍：100°C-350°C
Process Temperature Range：100°C-350°C
♦批次片數：50-100片
Batch Capacity：50-100 pcs
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