NA MASTER(那諾-馬斯特)的等離子灰化和清洗系統(tǒng)可用于單晶圓處理或批處理，清洗、刻蝕、改性、去膠等各種功能。各向同性PE和各向異性RIE兩種刻蝕并存，并可編程實(shí)現(xiàn)自動(dòng)切換，型號(hào)包含NPC-3000，NPC-4000。

等離子清洗及去膠系統(tǒng)

NA-MASTER(那諾-馬斯特)等離子灰化和清洗系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿(mǎn)足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說(shuō)可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

• 臺(tái)式或系統(tǒng)

• 不銹鋼、鋁制腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔

• 兼容100級(jí)凈間使用

• 淋浴頭、ICP或微波等離子源

• 旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)

• RF偏壓可PID控制加熱到300 °C或冷卻的樣品臺(tái)

• 全自動(dòng)或手動(dòng)RF調(diào)諧

• 多可支持4個(gè)MFC帶電拋光的氣體管路

• PC計(jì)算機(jī)控制的氣動(dòng)閥

• 帶保護(hù)的多級(jí)訪問(wèn)控制

• 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制

• 機(jī)械泵的壓力可10mTorr

• 250 l/s的渦輪分子泵

• 限真空為5x10-7Torr

• 完整的聯(lián)鎖

產(chǎn)品應(yīng)用：

• 物以及無(wú)機(jī)物的殘留物去除

• 光刻膠剝離或灰化

• 去殘膠以及內(nèi)腐蝕(深腐蝕)應(yīng)用

• 清洗微電子元件，電路板上的鉆孔或銅線框架

• 黏附性，消除鍵合問(wèn)題

• 塑料的表面改型：O2處理以改進(jìn)涂覆性能

• 產(chǎn)生親水或疏水表面