NA MASTER(那諾-馬斯特)提供應用的全自動磁控濺射系統，可用于電鏡樣品制備，也可以選擇DC和RF濺射，用于沉積金屬、氧化物和氮化物。主要型號包含NSC-1000，NSC-3000，NSC-3500，NSC-4000。

磁控濺射系統

        NA-MASTER(那諾-馬斯特)的全自動濺射系統帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能的8"旋轉樣平臺,可支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，限真空可達10-7 Torr，15分鐘內可以10-6 Torr的真空。通過使用RF射頻開關，RF射頻或DC直流電源可以切換到多磁控管模式。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。帶有偏軸磁控管的旋轉樣品臺，提供了的薄膜均勻性。晶振式厚度監測儀提供了系統可以自動終止工藝的能力。

產品特點：

• 不銹鋼，鋁質腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔

• 70，250或500 l/s的渦輪分子泵，串接機械泵或干泵

• 13.56MHz，300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源

• 晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率

• 帶觀察視窗的腔門易于上片

• 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制

• 帶保護功能的多級訪問控制

• 的聯鎖

選配項：

• 向上、向下或側面濺射

• RF、DC以及脈沖DC濺射

• 共濺射、反應濺射

• 組合濺射

• RF或DC偏壓（1000V）

• 樣品臺可加熱到700°C

• 膜厚監測儀

• 基片的RF射頻等離子清洗

• 預真空鎖以及自動晶圓片上/片

應用：

• 晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質涂覆

• 光學以及ITO涂覆

• 帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆

• 帶RF射頻等離子放電的反應濺射

型號：

• NSC-4000：基于PC計算機全自動控制的式系統

• NSC-3500：基于PC計算機全自動控制的緊湊型式系統

• NSC-3000：PC計算機全自動控制的臺式系統

• NSC-1000：半自動控制的臺式系統

• (以下為雙系統型號)

• NSR-4000：濺射/RIE系統

• NSP-4000：濺射/PECVD系統

• NST-4000：濺射/熱蒸發系統

                                                               NSC-1000